Nr sprawy - Wojskowa Akademia Techniczna

Nr sprawy: 286/WTC/2011
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
00-908 Warszawa 49, skr. poczt. 50, ul. gen. Sylwestra Kaliskiego 2
ogłasza przetarg nieograniczony o wartości powyżej 193 000 euro na:
„DOSTAWA ZESTAWU SKŁADAJĄCEGO SIĘ Z:
1) SYSTEMU WYTWARZANIA POKRYĆ DIELEKTRYCZNYCH, OCHRONNYCH I WARSTW DOPASOWUJĄCYCH
OPTYCZNIE,
ORAZ Z
2) SYSTEMU WYTWARZANIA PODŁOŻY DO NANOTECHNOLOGII I ELEMENTÓW FOTONICZNYCH Z WARSTWĄ
CIEKŁOKRYSTALICZNĄ
WRAZ ZE SPRZĘTEM UZUPEŁNIAJĄCYM ORAZ ZAMONTOWANIEM WE WSKAZANYM PRZEZ ZAMAWIAJĄCEGO
POMIESZCZENIU, URUCHOMIENIEM SYSTEMU I PRZESZKOLENIEM PERSONELU W ZAKRESIE EKSPLOATACJI.”
CPV 42990000-2
1.
2.
Specyfikację istotnych warunków zamówienia można pobrać osobiście w siedzibie Sekcji Zamówień Publicznych, 00-908
Warszawa, ul. gen. Sylwestra Kaliskiego 2, Budynek Nr 22, pokój Nr 5 (wejście przez biuro przepustek).
Specyfikację istotnych warunków zamówienia można pobrać nieodpłatnie ze strony internetowej Zamawiającego
www.wat.edu.pl pod linkiem „Zamówienia publiczne”– zamieszczoną na końcu ogłoszenia.
Przedmiot oraz wielkość lub zakres zamówienia:
Przedmiotem zamówienia jest dostawa zestawu wytwarzania pokryć dielektrycznych i podłoży do nanotechnologii ,
zwanego dalej „zestawem”, do składającego się z:

systemu wytwarzania pokryć dielektrycznych, ochronnych i warstw dopasowujących optycznie (zwanego
dalej systemem DOD)
oraz z

systemu wytwarzania podłoży do nanotechnologii i elementów fotonicznych z warstwą ciekłokrystaliczną
(zwanego dalej systemem NanoLC)
ze sprzętem uzupełniającym wraz zamontowaniem, uruchomieniem i przeszkoleniem personelu we wskazanych przez
Zamawiającego pomieszczeniu.
System DOD: Kompletny system wytwarzania pokryć dielektrycznych, ochronnych i warstw dopasowujących
optycznie z układem kontroli parametrów osadzanych warstw i skomputeryzowanym systemem kontroli procesu
nakładania warstw oraz odpowiednim oprogramowaniem wraz z zamontowaniem, uruchomieniem i przeszkoleniem.
System powinien zapewniać możliwość osadzania warstw dielektrycznych, ochronnych (SiO2, ZnO, ITO, itp.) oraz warstw
dopasowujących optycznie (warstw twardych i warstw miękkich) na elementach z różnych materiałów stosowanych w technice
optycznej, podczerwieni i UV m.in. na szkle, germanie (Ga), krzemie i szkle kwarcowym (Si, Suprasil®, JG3® lub
równoważnym), selenku cynku (ZnSe), fluorku wapnia (CaF 2), szkłach germanowych (np. Amtir®, Gasir® lub równoważnych).
System powinna charakteryzować zwarta budowa i powinien zawierać min. następujące elementy o niżej wymienionych
parametrach.
1. Komora procesowa z drzwiami próżniowymi umożliwiająca jednoczesne załadowanie i naparowanie warstw na próbki o
wymiarach przynajmniej 75 x75 mm, ogrzewane do kontrolowanej temperatury do 300 C, z jednorodnością pokrycia
powierzchni minimum 50 x 50 mm lepszą niż 5% w ilości jednorazowo min. 4 szt. Komora powinna zawierać przyłącza do
jednoczesnego zainstalowania min. 2 naparowarek z bombardowaniem elektronowym, źródła jonów, manipulatora, wag
kwarcowych, układu pomiaru grubości osadzanych warstw i innego wyposażenia niezbędnego do wykonania podłoży w
procesie automatycznym i manualnym, a także min., okien obserwacyjnych z przesłonami.
2. Kompletny, bezolejowy system pompowy z pompą turbomolekularną i pompą próżni wstępnej, zestaw zaworów
śluzowych, elektromagnetycznych bezpieczeństwa i zapowietrzających (w tym z możliwością zagazowania azotem),
systemem komputerowym sterujący i monitorujący pracę pomp i zaworów oraz minimum dwukanałowy układ pomiaru i
monitorowania próżni. System powinien umożliwiać pracę przy dozowaniu gazów reaktywnych i gazów dla źródła jonów.
System powinien być wyposażony w ten sposób by był odporny na chwilowy zanik napięcia w sieci zasilającej, wyłączenie
wody chłodzącej i itp. Gwarantowana próżnia bazowa < 210-7 mbara, osiągalna po maksimum 24 godz. od zapowietrzenia
komory. Próżnia 10-6 mbara osiągalna po 20 minutach od zapowietrzenia komory.
3. Układ pomiaru próżni procesowej pracujący w warunkach osadzania warstw i układ pomiaru próżni wstępnej. Pomiar
próżni w zakresie od 1000 mbarów do 1,0  10-7 mbara. Dokładność pomiarów 10% w zakresie do 1 mbara oraz 15%
w pozostałych zakresach.
4. Manipulator komory procesowej umożliwiający mocowanie i zmianę położenia do 4 podłoży o dowolnym kształcie,
mieszczących się w kwadracie o boku 75 mm. Zakresy ruchu podłoży we wszystkich kierunkach dostosowane do
warunków prowadzenia procesu umożliwiającego uzyskanie jednorodnego pokrycia nakładanymi warstwami na
powierzchni wszystkich podłoży w kwadracie minimum 50 x 50 mm w tym moduł ruchu pionowego podłoży, umożliwiający
przemieszczanie podłoży w zakresie minimum 50 mm. Uchwyty podłoży z obrotem. Manipulator przystosowany do pracy
w warunkach grzania podłoży do temp. 300 C.
5. Moduł grzania komory procesowej umożliwiający grzanie podłoży do 300 C.
6. Układ oświetlenia komory procesowej,
7. Uchwyty wszystkich podłoży, minimum 1 zestaw,
8. Kompletny układ wygrzewania komory procesowej, jednostrefowy, z izolowanym blatem, i mikroprocesorowym układem
sterowania umożliwiającym automatyczny przebieg procesu. Zamawiający dopuszcza zaoferowanie sytemu bez
wygrzewania komory procesowej o ile brak tego układu nie wpływa na funkcjonalność ani parametry oferowanego
systemu, tj. przede wszystkim nie wpłynie na czas osiągania próżni roboczej i jeżeli nie stoi to w kolizji z wymaganiem,
które dotyczy wygrzewania wszystkich podłoży oraz utrzymania tych podłoży w stałej, arbitralnie regulowanej i ściśle
kontrolowanej temperaturze.
9. Kompletny stelaż systemu stanowiska z kołami transportowymi, układem poziomowania, płytami osłonowymi itp.,
10. Układ chłodzenia systemu o parametrach zapewniających bezawaryjna pracę systemu. Układ powinien być dostarczony z
oprzyrządowaniem i wyposażeniem oraz zamkniętym obiegiem cieczy chłodzącej, monitorowaniem poziomu i temperatury
wody chłodzącej i systemem awaryjnego ostrzegania o zakłóceniach pracy układu. Układ powinien być zintegrowany z
układem kontrolno-sterującym.
11. Minimum 2 naparowarki z bombardowaniem elektronowym z dodatkowym wyposażeniem, umożliwiająca naparowanie
warstw o jednorodności lepszej niż 5% na pow. obejmującej kwadrat minimum 50 x 50 mm na każdym z podłoży, moc
min. 5 kW, prąd min. 750 mA, z odpowiednimi zasilaczami, sterownikami prądu katody przesłonami, tyglami (min. 4 szt.),
układami chłodzenia, z cyfrowymi, programowalnymi układami odchylania wiązki elektronów i innym niezbędnym
wyposażeniem. Wymagana jest możliwość jednoczesnego parowania materiałów z obu dział elektronowych. System
powinien być wyposażony w 2 niezależne przysłony z możliwością jednoczesnego otwarcia (jak i otwarcia tylko jednej
przysłony) oraz 2 komplety blach osłonowych. Wymagana jest możliwość pracy ciągłej w atmosferze tlenowej i gazów
inertnych (przy dozowaniu gazów w trybie automatycznym i ręcznym w ilościach do 8 [cm3/s]). Wymagana jest maska
zapewniająca jednorodność naparowania zamontowana poniżej systemów planetarnych. Zapasowe katody, 10 szt., Tygle
z 4-ma obracanymi kieszeniami o pojemności min. 4 [cm 3]. Dopuszczalny wariant: 1 tygiel 6-cio pozycyjny, z dwoma
wyrzutniami elektronowymi, poj. gniazda rzędu 7 cm 3. 2 działa elektronowe od 5 kW lub 10 kW. Wymagane materiały
eksploatacyjne:
Materiał
ziarnistość
czystość
waga
ITO
1/8"--1/4"
99.99%
200g
MgF2
3-6 [mm]
99.80%
200g
ZnS
3-12 [mm]
99.99%
200g
SiO2
3-12 [mm]
99.99%
200g
Al2O3
3-6 [mm]
99.99%
100g
Ta2O5
3-6 [mm]
99.90%
75g
Al.
1/8"--1/4"
99.99%
100g
Cr
1-6 [mm]
99.99%
100g
Au
drut śr. 1 [mm]
99.98%
20g
Ind
1/8"śr-1/8"dł
99.99%
200g
12. Kompletny, 2 kanałowy układ pomiaru grubości i szybkości nakładania warstw na bazie wag kwarcowych, z 2-ma
głowicami, z przesłonami i manipulatorami
 działającym przy częstotliwości od 4 do 6 MHz,
 z regulowanym czasem pomiaru od 0,1 do 2 sekund,
 ilość zapamiętanych warstw min. 60,
 podłączeniem umożliwiającym odczyt z poziomu komputerowego systemu kontrolno pomiarowego
2 dodatkowo kryształy pomiarowe - nie mniej niż 30 sztuk
13. Kompletny układ minimum 2 sterowanych regulatorów przepływu gazów z zaworami odcinającymi, umożliwiający pracę z
dwoma rożnymi gazami (spośród takich gazów jak Ar, He, O2, N2) o czystości klasy 6N z odpowiedni nimi układami
automatyki sterującej zapewniającymi sterowanie i monitoring przepływu gazów. Każde z doprowadzeń do regulatora
przepływu gazu powinno zawierać trójnik umożliwiający podłączenie dwóch źródeł gazu, które można alternatywnie
wykorzystywać w procesie nakładania warstw.
14. Kompletne źródło jonów wraz z odpowiednim zasilaczem i układem sterującym dedykowane do nakładania warstw
wspomaganego strumieniem jonów (ang. Ion Assistant Deposition) oraz czyszczenia powierzchni próbki (np. Saintech Ion
Beam System ST55 lub ekwiwalentny):
 System umożliwiający pracę w modach; ciągłym, pulsacyjnym, w kontrolowanej atmosferze gazu
technologicznego, czyszczenia podłoży,
 Energia wiązki jonów regulowana, w zakresie do min. 230 eV,
 Moc wiązki przynajmniej 1500 W, stabilizacja mocy lepsza niż 5%,
 Prąd anodowy do 7A lub więcej, niepewność ustawienia prądu < 5%,
 Źródło chłodzone wodą,
 Możliwość pracy ciągłej w atmosferze tlenowej i gazów inertnych bez konieczności wymiany anody, możliwość
dozowania gazów w trybie automatycznym i ręcznym do 8 [cm 3/s].
 Możliwość sterowania źródła jonów z poziomu komputerowego systemu kontrolno pomiarowego w procesie
automatycznego przebiegu procesu.
 Graficzny interfejs użytkownika z możliwością kontroli i sterowania parametrami pracy,
 Zestaw zapasowych katod, 10 szt.
15. Kompletny zestaw oprzyrządowania zapewniający optyczny pomiar grubości nanoszonych warstw in situ, w zakresie
pojedynczej długości fali z zakresu 450 - 750nm, dokładność określenia grubości warstwy nie mniejsza niż lambda/40.
Opcjonalnie układ może umożliwiać pomiar w przy wybranej długości fali z zakresu 450 nm - 1600 nm. Opcja ta jest
osobno punktowana w procesie oceny oferty.
14. Kompletny komputeryzowany, automatyczny system kontroli i sterowania systemem, zapewniający programowalny,
powtarzalny proces osadzania warstw i monitorowanie parametrów procesu, odporny na chwilowe wahania i zanik
zewnętrznego zasilania prądem. System powinien zapewniać programowalny proces osadzania warstw, sterowany z
poziomu komputera PC. Komputer wyposażony w odpowiednie systemy i układy podłączenia i komunikacji z
urządzeniami, system operacyjny, oprogramowanie do obsługi aparatury, monitor lub monitory, klawiaturę i mysz,
kolorową drukarkę. O ile stanowisko obsługowe systemu wyposażone w monitor nie jest zamontowany w zwartej
obudowie urządzenia i stanowi jego integralną całość, to dostawca dostarczy monitor lub monitory LCD o przekątnej
minimum 22 cale, odpowiedni stolik i fotel na kołach przystosowane do pracy w pomieszczeniach o podwyższonej
czystości, czyli takie które nie są źródłem zanieczyszczeń lub ich nie gromadzą. Wyklucza się wykorzystanie drewna i
materiałów pokryciowych z włókna). System powinien być wyposażony w przynajmniej 1 dodatkowy dysk zewnętrzny i
oprogramowanie (np. Norton Ghost lub równoważny) do archiwizacji kopii bezpieczeństwa systemu operacyjnego,
sterującego, danych procesowych i pomiarowych.
16. Program do obliczeń właściwości transmisyjnych i odbiciowych cienkich powłok wielowarstwowych w zakresie spektralnym
od 0,3 m - 3,0 m, (np. TFCalc 3.5.15, OptiLayer Pro lub ekwiwalentny) z licencją na 2 stanowiska, w tym jedno mobilne i
bazą danych o typowych materiałach stosowanych do wykonywania powłok optycznych.
17. Urządzenie powinno być przystosowane do zasilania z sieci energetycznej dostępnej w Polsce:

Linia energetyczna: 3 fazowa,

Napięcie: 3 x 400V+/-10%, AC.

Częstotliwość: 50Hz.
System NanoLC: Kompletny system wytwarzania podłoży do nanotechnologii elementów fotonicznych z warstwą
ciekłokrystaliczną z układem kontroli parametrów osadzanych warstw oraz ze skomputeryzowanym systemem kontroli
procesu nakładania warstw, oprogramowaniem wraz z zamontowaniem, uruchomieniem i przeszkoleniem.
System powinien zapewniać możliwość osadzania przewodzących warstw metalicznych (złoto, chrom, miedź, aluminium itp.) i
warstw tlenkowych na elementach z różnych materiałów stosowanych w technice optycznej, podczerwieni i UV; m.in. na szkle,
germanie (Ga), krzemie (Si, Suprasil®, JG3® lub równowaznym) , selenku cynku (ZnSe), fluorku wapnia (CaF 2), szkłach
germanowych (np. Amtir®, Gasir® lub równoważnych). Urządzenie powinno być przystosowane do zasilania z sieci
energetycznej dostępnej w Polsce: linia energetyczna: 3 fazowa, napięcie: 3 x 400V+/-10%, AC, częstotliwość: 50Hz.
System powinna charakteryzować zwarta budowa i powinien zawierać min. następujące elementy o niżej wymienionych
parametrach.
1. Komora procesowa z drzwiami próżniowymi umożliwiająca jednoczesne załadowanie i naparowanie warstw na próbki o
wymiarach przynajmniej 75 x75 mm, ogrzewane do kontrolowanej temperatury do 300 C, z jednorodnością pokrycia
powierzchni o wymiarach minimum 50 x 50 mm w ilości min. 4 szt. Komora powinna zawierać przyłącza do jednoczesnego
zainstalowania min. minimum 2 źródeł magnetronowych o średnicy targetów minimum 3 cale i źródła jonów oraz
manipulatorów próbek, wag kwarcowych, układu pomiaru grubości nakładanych warstw, układów naparowania
termicznego, okna obserwacyjne z przesłonami, itp.
2. Kompletny, bezolejowy system pompowy z pompą turbomolekularną i pompą próżni wstępnej, zestaw zaworów
śluzowych, elektromagnetycznych, bezpieczeństwa i zapowietrzających (w tym z możliwością zagazowania komory
azotem), system komputerowym sterujący i monitorujący wizualizujący pracę pomp i zaworów oraz, minimum
dwukanałowy, układ pomiaru i monitorowania próżni z poziomu skomputeryzowanego systemu kontrolno sterującego.
System powinien być wyposażony w ten sposób by był odporny na chwilowy zanik napięcia w sieci zasilającej, wyłącznie
wody chłodzącej i itp. Gwarantowana próżnia bazowa < 210-7 mbara, osiągalna po maksimum 24 godz. od zapowietrzenia
komory. Próżnia rzędu 10-6 mbara osiągalna po 20 minutach od zapowietrzenia komory.
3. Układ pomiaru próżni procesowej pracujący w warunkach osadzania warstw i układ pomiaru próżni wstępnej. Pomiar
próżni w zakresie od 1000 mbarów do 1,0  10-7 mbara. Dokładność pomiarów 10% w zakresie do 1mbara oraz 15% w
pozostałych zakresach.
Manipulator komory procesowej umożliwiający mocowanie i zmianę położenia minimum 4 podłoży o dowolnym kształcie,
mieszczących się w kwadracie o boku 75 mm. Manipulator umożliwiający takie przemieszczenia podłoży, które pozwalają
uzyskać jednorodne pokrycia na podłożach w kwadracie minimum 50 x 50 mm. System wyposażony w uchwyty
umożliwiające obroty podłoży nad źródłami poprawiające jednorodność nanoszonych warstw. Wymagana jest regulacja
odległości między podłożami a źródłami w zakresie przynajmniej  25 mm od położenia roboczego (standartowego).
Manipulator przystosowany do pracy w warunkach grzania podłoży do temp. 300 C.
4. Moduł grzania komory procesowej umożliwiający grzanie podłoży do 300 C.
5. Diodowy układ oświetlenia komory procesowej.
6. Uchwyty wszystkich podłoży, minimum 1 zestaw.
7. Kompletny układ wygrzewania komory procesowej, jednostrefowy, z izolowanym blatem, i mikroprocesorowym układem
sterowania umożliwiającym automatyczny przebieg procesu. Zamawiający dopuszcza zaoferowanie sytemu bez
wygrzewania komory procesowej o ile brak tego układu nie wpływa na funkcjonalność ani parametry oferowanego
systemu, tj. przede wszystkim nie wpłynie na czas osiągania próżni roboczej i jeżeli nie stoi to w kolizji z wymaganiem,
które dotyczy wygrzewania wszystkich podłoży oraz utrzymania tych podłoży w stałej, arbitralnie regulowanej i ściśle
kontrolowanej temperaturze.
8. Kompletny stelaż systemu stanowiska z kołami transportowymi, układem poziomowania, płytami osłonowymi itp.
9. Układ chłodzenia systemu o parametrach zapewniających bezawaryjna pracę systemu. Układ powinien być dostarczony
z oprzyrządowaniem i wyposażeniem oraz zamkniętym obiegiem cieczy chłodzącej, monitorowaniem poziomu i
temperatury wody chłodzącej i systemem awaryjnego ostrzegania o zakłóceniach pracy układu. Układ powinien być
zintegrowany z układem kontrolno-sterującym.
10. Minimum 2 źródła magnetronowe o rozmiarze minimum 3 cale z wyposażeniem, zapewniające rozpylanie warstw z
materiałów niemagnetycznych z przesłonami sterowanymi także z poziomu układu kontrolno-pomiarowego, minimum 2
źródła zasilania RF (moc wyjściowa min. 300 W, f = 13,56 MHz) współpracujące z komputerowym system kontrolnosterującym oraz minimum 2 układy dopasowania (matchbox). Moc układów musi zapewniać możliwość osadzania warstw
o wysokiej temperaturze topnienia. Targety chłodzone wodą, magnetrony z kominkami zapobiegającymi wzajemnemu
zanieczyszczaniu się źródeł. Całość układu umożliwia nanoszenie warstw o jednorodności lepszej niż 5% na pow.
obejmującej kwadrat minimum 50 x 50 mm na każdym z podłoży. Targety o średnicy minimum 3 cale i grubości minimum
3 mm, max. 7 mm z następujących materiałów: SiO2 - 1szt., ITO – 1 szt., Cr – 1 szt., Al. – 1 szt.
11. Źródło naparowania termicznego w postaci łódki z przysłoną i ekranami i zasilaczem źródła termicznego o mocy nie
mniejszej niż 2 kW, możliwość naparowania z jednej lub dwóch łódek jednocześnie. Zestaw minimum 10 łódek (w tym z
wolframu i molibdenu).
12. Opcjonalnie system NanoLC wyposażony urządzenie dedykowane do czyszczenia powierzchni próbki w postaci
dodatkowego źródła jonów o regulowanej energii jonów w zakresie od 0,1 keV do przynajmniej 3 keV, zapewniające
czyszczenie podłoża na powierzchni (sputter cleaning) mieszczącej kwadrat 50 x 50 mm, prąd jonowy nie mniejszy niż 4
2, ciśnienie robocze: 10-3 – 10-6 mbar, kołnierz
montażowy dostosowany do komory procesowej z odpowiednim zasilaczem wyposażonym w interfejs komunikacyjny z
systemem komputerowym, zapewniającym możliwość sterowania procesem czyszczenia z poziomu systemu
komputerowego, niepewność ustawienia prądu < 5%. Opcja osobno punktowana w procesie oceny prawidłowo złożonej
oferty.
13. Kompletny, 2 kanałowy układ pomiaru grubości i szybkości nakładania warstw na bazie wag kwarcowych, z dwoma
głowicami, z przesłonami i manipulatorami, przystosowany do pracy w polu RF,

działającym przy częstotliwości od 4 do 6 MHz,

z regulowanym czasem pomiaru od 0,1 do 2 sekund,

ilość zapamiętanych warstw min. 60,

podłączeniem umożliwiającym odczyt z poziomu komputerowego systemu kontrolno pomiarowego,

dodatkowo kryształy pomiarowe - nie mniej niż 30 sztuk
15. Kompletny układ minimum 2 sterowanych regulatorów przepływu gazów z zaworami odcinającymi, umożliwiający pracę z
dwoma rożnymi gazami (w tym O2) o czystości klasy 6N z odpowiednimi układami automatyki sterującej zapewniającymi
sterowanie przepływu gazów z poziomu jednostki sterującej PC.
16. Kompletny komputeryzowany, automatyczny system kontroli i sterowania systemem, zapewniający programowalny proces
osadzania warstw i monitorowanie parametrów procesu, odporny na chwilowe wahania i zanik zewnętrznego zasilania
prądem. System powinien zapewniać programowalny proces osadzania warstw, sterowany z poziomu komputera PC.
Komputer wyposażony w odpowiednie systemy i układy podłączenia i komunikacji z urządzeniami, system operacyjny,
oprogramowanie do obsługi aparatury, monitor lub monitory, klawiaturę i mysz, kolorową drukarkę. O ile stanowisko
obsługowe systemu wyposażone w monitor nie jest zamontowany w zwartej obudowie urządzenia i stanowi jego integralną
całość, to dostawca dostarczy monitor lub monitory LCD o przekątnej minimum 22 cale, odpowiedni stolik i fotel na kołach
przystosowane do pracy w pomieszczeniach o podwyższonej czystości, czyli takie które nie są źródłem zanieczyszczeń
lub ich nie gromadzą. Wyklucza się wykorzystanie drewna i materiałów pokryciowych z włókna). System powinien być
wyposażony w przynajmniej 1 dodatkowy dysk zewnętrzny i oprogramowanie (np. Norton Ghost lub równoważny) do
archiwizacji kopii bezpieczeństwa systemu operacyjnego, sterującego, danych procesowych i pomiarowych.
17. Urządzenie powinno być przystosowane do zasilania z sieci energetycznej dostępnej w Polsce:

Linia energetyczna: 3 fazowa,

Napięcie: 3 x 400V+/-10%, AC.

Częstotliwość: 50Hz.
Warunki dodatkowe:
1. Kompletny, minimum 1, zestaw dokumentacji techniczno ruchowej, opisów technicznych instrukcji obsługi oraz wszystkich
procesów technologicznych i pomiarowych oferowanych przez system wykonywanych w języku polskim lub angielskim w
tym maksymalnie duża ich część w języku polskim w wersji drukowanej na papierze i w wersji elektronicznej np. na dysku
CD.
2. Dostawca dostarczy minimum jeden zestaw zapasowy wszystkich typów wymiennych źródeł światła i bezpieczników.
3. Dostawca zapewni dostępność części zamiennych przez minimum 10 lat od daty uruchomienie systemów DOD i nanoLC,
co potwierdzi oświadczeniem na piśmie. Dostawa części zamiennych do ww. systemów będzie się odbywała na
warunkach określonych w odrębnej umowie.
4. Dostawca dostarczy na nośniku elektronicznym minimum 1 kopię zapasową kompletnego oprogramowania jednostki
centralnej i sterującego systemami DOD i nanoLC wraz z bezterminową licencją dla Zamawiającego na nieograniczone
użytkowanie tego oprogramowania przez Zamawiającego w jego siedzibie.
5. Dostawca zapewni bezpłatną aktualizację oprogramowania jednostki centralnej oprogramowania sterującego systemami
DOD i nanoLC w okresie minimum 5 lat od daty podpisania protokołu odbioru systemów DOD i nanoLC, co potwierdzi
oświadczeniem na piśmie.
6. Dostawca dostarczy minimum jeden zestawu kompletnych instrukcji obsługi oprogramowania.
7. Dostawca zapewni serwis pogwarancyjny systemów DOD i nanoLC w okresie minimum 10 lat od daty instalacji co
potwierdzi oświadczaniem na piśmie. Serwis pogwarancyjny systemów będzie się odbywał na warunkach określonych w
odrębnej umowie.
8. Dostawca zapewni nieodpłatnie wsparcie techniczne w zakresie dotyczącym eksploatacji i prowadzenia prac z
wykorzystaniem systemów DOD i nanoLC w okresie 10 lat od daty podpisania protokołu odbioru co potwierdzi
oświadczeniem na piśmie.
9. Dostawca nieodpłatnie zapewni szkolenie minimum 3 osób w zakresie obsługi systemów DOD i nanoLC w siedzibie
Zamawiającego. Szkolenie obejmie, w ramach minimum 40 godzin szkolenia, wszystkie techniki pracy zapewnione przez
urządzenia a także techniki obsługi technicznej systemów DOD i nanoLC. Szkolenie rozpocznie się w ciągu 6 tygodni i
zakończy nie później niż 4 miesiące od dnia przekazania urządzenia protokołem odbioru.
3. Osoba do kontaktu z wykonawcami w sprawach merytorycznych dotyczących przedmiotu zamówienia:
Wiktor PIECEK – tel. +48 22 683 97 31, e-mail: [email protected], fax. +48 22 683 97 23
4. Osoba do kontaktu z wykonawcami w sprawach proceduralnych:
Sławomir BANDURSKI– tel. +48 22 683 78 65 e-mail: [email protected], fax. +48 22 683 97 23
Robert GÓRECKI, tel. +48 22 683 97 88, e-mail: [email protected], fax. +48 22 683 97 23
Zamawiający nie dopuszcza możliwości złożenia oferty częściowej.
Zamawiający nie dopuszcza możliwości złożenia oferty wariantowej.
Zamawiający dopuszcza możliwość złożenia oferty równoważnej.
Termin wykonania zamówienia: do 14 tygodni od dnia podpisania umowy.
Warunki wymagane od Wykonawcy:
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy spełniają warunki, dotyczące:
1)
Posiadania uprawnień do wykonywania określonej działalności lub czynności, jeżeli przepisy prawa nakładają
obowiązek ich posiadania;
2)
Posiadania wiedzy i doświadczenia;
3)
Dysponowania odpowiednim potencjałem technicznym oraz osobami zdolnymi do wykonania zamówienia;
4)
Sytuacji ekonomicznej i finansowej.
Zamawiający uzna spełnienie warunku określonego w pkt. 9.2 jeżeli Wykonawca:
w okresie ostatnich trzech lat przed dniem wszczęcia postępowania o udzielenie zamówienia, a jeżeli okres
prowadzenia działalności jest krótszy - w tym okresie: wykonał co najmniej dwie dostawy obejmujące swym
zakresem systemy do próżniowego nanoszenia warstw metodą rozpylania elektronowego i
magnetronowego, o wartości nie mniejszej niż 400.000,00 zł brutto każda oraz załączy dokumenty
potwierdzające, że te dostawy zostały wykonane lub są wykonywane należycie
Zamawiający uzna spełnienie warunku określonego w pkt. 9.4 jeżeli Wykonawca:
a) posiada środki finansowe lub dysponuje zdolnością kredytową do wysokości 1.500.000,00 zł.
b) dysponuje opłaconą polisą, a w przypadku jej braku innym dokumentem potwierdzającym, że wykonawca jest
ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z przedmiotem
zamówienia na kwotę min. 1.500.000,00 zł
5)
Zgodnie z art. 26 ust. 2b ustawy Prawo zamówień publicznych, Wykonawca może polegać na wiedzy i
doświadczeniu, potencjale technicznym, osobach zdolnych do wykonania zamówienia lub zdolnościach
finansowych innych podmiotów, niezależnie od charakteru prawnego łączących go z nimi stosunków. Wykonawca
w takiej sytuacji zobowiązany jest udowodnić zamawiającemu, iż będzie dysponował zasobami niezbędnymi do
realizacji zamówienia, w szczególności przedstawiając w tym celu pisemne zobowiązanie tych podmiotów do
oddania mu do dyspozycji niezbędnych zasobów na okres korzystania z nich przy wykonaniu zamówienia.
6)
Jeżeli wykonawca, wykazując spełnianie warunków, o których mowa w art. 22 ust. 1 ustawy, polega na zasobach
innych podmiotów na zasadach określonych w art. 26 ust. 2b ustawy, a podmioty te będą brały udział w
realizacji części zamówienia, zamawiający żąda od wykonawcy przedstawienia w odniesieniu do tych podmiotów
dokumentów wymienionych w pkt. 10.2, 10.3, 10.4, 10.5, 10.6 i 10.7 ogłoszenia.
Sposób dokonywania oceny ww. warunków będzie odbywał się wg zasady „spełnia/nie spełnia” na podstawie załączonych
do oferty oświadczeń i dokumentów, których wykaz został określony w pkt 10 i 11 niniejszego ogłoszenia.
10. Dokumenty wymagane dla potwierdzenia ww. warunków:
1) Oświadczenie, że Wykonawca spełnia wymogi określone w art. 22 ust. 1 ustawy Prawo zamówień publicznych
stanowiące załącznik nr 2 do SIWZ.
2) Oświadczenie o braku podstaw do wykluczenia, o których mowa w art. 24 ust. 1 ustawy Pzp, stanowiące załącznik nr
2A do SIWZ.
3) Aktualny odpis z właściwego rejestru, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru, w celu wykazania braku
podstaw do wykluczenia w oparciu o art. 24 ust 1 pkt 2 ustawy, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed
upływem terminu składania ofert, a w stosunku do osób fizycznych oświadczenie w zakresie art. 24 ust. 1 pkt 2
ustawy Pzp stanowiące załącznik nr 2B do SIWZ, iż Wykonawca nie podlega wykluczeniu z postępowania, nie
otwarto likwidacji lub nie ogłoszono upadłości, z wyjątkiem wykonawców, którzy po ogłoszeniu upadłości
zawarli układ zatwierdzony prawomocnym postanowieniem sądu, jeżeli układ nie przewiduje zaspokojenia
wierzycieli przez likwidację majątku upadłego
4) Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 4—8 ustawy,
wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert.
5) Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 9 ustawy, wystawiona
nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu ofert. Podmioty zbiorowe wyszczególnione zostały w art. 2
ustawy z dnia 28 października 2002r. o odpowiedzialności podmiotów zbiorowych za czyny zabronione pod groźbą
kary (Dz. U. z 2002 r. Nr 197, poz. 1661 z późn. zm.). Do podmiotu zbiorowego zalicza się również osobowe
spółki handlowe, w tym spółki jawne.
6) Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego oraz właściwego oddziału Zakładu Ubezpieczeń
Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia Społecznego potwierdzających odpowiednio, że wykonawca nie
zalega z opłacaniem podatków oraz składek na ubezpieczenie zdrowotne lub społeczne, lub zaświadczeń, że uzyskał
przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości
wykonania decyzji właściwego organu - wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu
składania ofert.
7) Informacja banku lub spółdzielczej kasy oszczędnościowo-kredytowej, w których wykonawca posiada rachunek,
potwierdzającej wysokość posiadanych środków finansowych lub zdolność kredytową wykonawcy, wystawiona nie
wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
8) Opłacona polisa, a w przypadku jej braku inny dokument potwierdzający, że wykonawca jest ubezpieczony od
odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z przedmiotem zamówienia.
9) Wykaz wykonanych, a w przypadku świadczeń okresowych lub ciągłych również wykonywanych, dostaw lub usług w
zakresie niezbędnym do wykazania spełniania warunku wiedzy i doświadczenia w okresie ostatnich trzech lat
przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy w tym okresie, z podaniem
ich wartości, przedmiotu, dat wykonania i odbiorców, oraz załączeniem dokumentu potwierdzającego, że te dostawy lub usługi zostały wykonane lub są wykonywane należycie - załącznik nr 5 do SIWZ.
5.
6.
7.
8.
9.
11.
12.
13.
14.
15.
16.
17.
18.
19.
20.
21.
10) Jeżeli Wykonawca ma siedzibę lub miejsce zamieszkania poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, zamiast
dokumentów, o których mowa w pkt 10. ppkt 3, 5 i 6, składa dokument lub dokumenty, wystawione w kraju, w którym
ma siedzibę lub miejsce zamieszkania, potwierdzające odpowiednio, że:
a) nie otwarto jego likwidacji ani nie ogłoszono upadłości; wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed
upływem terminu składania ofert;
b) nie zalega z uiszczaniem podatków, opłat, składek na ubezpieczenie zdrowotne albo że uzyskał przewidziane
prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania
decyzji właściwego organu; wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert;
c) nie orzeczono wobec niego zakazu ubiegania się o zamówienie; wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed
upływem terminu składania ofert
11) Jeżeli w kraju pochodzenia osoby lub w kraju, w którym Wykonawca ma siedzibę lub miejsce zamieszkania, nie wydaje
się dokumentów, o których mowa w pkt 10. ppkt 3, 4, 5, 6, 7 zastępuje się je dokumentem zawierającym oświadczenie
złożone przed notariuszem, właściwym organem sądowym, administracyjnym albo organem samorządu zawodowego
lub gospodarczego odpowiednio kraju pochodzenia osoby lub kraju, w którym Wykonawca ma siedzibę lub miejsce
zamieszkania.
Oferta składana przez Wykonawcę winna również zawierać:
1) „Formularz ofertowy” stanowiący załącznik nr 1 do SIWZ,
2) „Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia” stanowiący załącznik nr 3 do SIWZ,
3) „Minimalne parametry techniczne zestawu do wytwarzania pokryć dielektrycznych i podłoży do nanotechnologii”
stanowiące załącznik nr 6 do SIWZ,
4) pełnomocnictwo do podpisania oferty, jeżeli nie wynika ono z załączonych dokumentów wymaganych
postanowieniami pkt 10 niniejszego ogłoszenia.
5) oświadczenia i dokumenty, w formie oryginału lub kserokopii wymienione w pkt 10, 11 i 12 ogłoszenia.
6) oryginał lub kopię poręczeń lub gwarancji stanowiących dowód wniesienia wadium. Przy wniesieniu wadium w
formie pieniężnej na rachunek Zamawiającego zaleca się załączyć kopię przelewu. Brak w ofercie kopii przelewu nie
będzie podstawą do odrzucenia oferty. Natomiast brak wniesienia wadium w terminie będzie skutkowało
wykluczeniem wykonawcy z przedmiotowego postępowania.
Skuteczne wniesienie wadium przelewem oznacza obecność wymaganej kwoty wadium na koncie
Zamawiającego do dnia i godziny upływu terminu składania ofert określonego w pkt. 18 ogłoszenia. Datą
wpłaty wadium jest data wpływu na konto Zamawiającego a nie data złożenia przelewu.
Zamawiający wymaga wniesienia wadium.
Wykonawca ubiegający się o udzielenie zamówienia publicznego jest zobowiązany wnieść, na czas związania ofertą,
wadium w wysokości 30.000,00 zł przed upływem terminu składania ofert tj.: do dnia 04.10.2011r. do godz.09:00.
W zależności od wyboru Wykonawcy, wadium może być wniesione:
a) w pieniądzu, przelewem na konto Zamawiającego PEKAO S.A. Warszawa ul. Towarowa 25 Nr 34 1240 5918 1111
0000 4910 0228 z dopiskiem „Dostawa zestawu składającego się z
systemu wytwarzania pokryć
dielektrycznych, ochronnych i warstw dopasowujących optycznie oraz z systemu wytwarzania podłoży do
nanotechnologii i elementów fotonicznych z warstwą ciekłokrystaliczną”. Skuteczne wniesienie wadium
przelewem oznacza obecność wymaganej kwoty wadium na koncie Zamawiającego w wyżej wymienionym
terminie, czyli datą wpłaty wadium jest data wpływu na konto, a nie data złożenia przelewu.
b) w formie dopuszczonej przez art. 45 ust. 6 pkt 2-5 Prawa zamówień publicznych – dowodem wniesienia wadium
będzie załączony do oferty oryginał tego dokumentu.
Kryteria oceny oferty i ich znaczenie:
Cena - 85 %
Optyczny pomiar grubości nanoszonych warstw w zakresie wybranej długości fali z zakresu 450 nm - 1600 nm
- 3%
Urządzenie do czyszczenia powierzchni – 7 %
Warunki gwarancji – 5 %
Zamawiający nie zamierza zawrzeć umowy ramowej.
Zamawiający nie zamierza ustanowić dynamicznego systemu zakupów.
Zamawiający nie przewiduje wyboru najkorzystniejszej oferty z zastosowaniem aukcji elektronicznej.
Zamawiający nie przewiduje możliwości udzielenia zamówień uzupełniających o których mowa w art. 67 ust. 1 pkt 6
ustawy Prawo zamówień publicznych
Oferty w zamkniętych kopertach należy składać w godz. 7:30 do 15:00 w siedzibie Sekcji Zamówień Publicznych, 00908 Warszawa, ul. gen. Sylwestra Kaliskiego 2, Budynek Nr 22, pokój Nr 5 (wejście przez biuro przepustek) do dnia
04.10.2011r. do godz. 9:00 lub przesłać na adres Zamawiającego: Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława
Dąbrowskiego, 00-908 Warszawa 49, skr. poczt. 50, ul. gen. Sylwestra Kaliskiego 2 z terminem doręczenia do dnia
04.10.2011r. do godz. 9:00
Termin otwarcia ofert: 04.10.2011r. o godz. 10:00
Okres związania z ofertą: 60 dni.
Ogłoszenie o zamówieniu zostało przekazane Urzędowi Oficjalnych Publikacji Wspólnot Europejskich w dniu 23.08.2011r.
Wykonał:
Robert GÓRECKI
KIEROWNIK SEKCJI ZAMÓWIEŃ PUBLICZNYCH
Sławomir BANDURSKI