Elementy elektroniczne Wykłady 3: Półprzewodniki. Teoria złącza PN

advertisement
Elementy elektroniczne
Wykłady 3:
Półprzewodniki.
Teoria złącza PN
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Budowa atomu:
a) model starożytny
b) model J.J. Thompsona
c) model E. Rutherforda
d) model N. Bohra
e) wynikająca z mechaniki
falowej Schroedingera i
zasady nieozn.
Heisenberga
f) model wg. obecnego
stanu wiedzy
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Model Bohra:
- postulat 1 – elektrony poruszają się po orbitach
- postulat 2 – elektrony poruszają się po określonych, stałych
orbitach, dla każdej obowiązuje równanie będące krotnością stałej
Plancka h:
mv2r  nh
Gdzie: m – masa, v – pradkość, r – promień n-tej orbity
- postulat 3 – orbita, dla której elektron ma mniejszą energię
nazywamy stacjonarną; „zastrzyk” energii dla elektronu – zmiana orbity
na dozwoloną (atom wzbudzony)!!!, po krótkim czasie powrót na orbitę
stacjonarną i wypromieniowanie energii E o częstotliwości v:
E  hv
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Ciała stałe:
- regularna, okresowa budowa atomowa
- okresowość występuje we wszystkich kierunkach
- tworzą sieć krystaliczną (silne wiązania – brak przemieszczania)
- dopuszczalny jedynie ruch cieplny wokół położenia równowagi
- elektrony walencyjne – słabsze wiązania z jądrem atomu ze
względu na drgania cieplne oraz siły wzajemnego oddziaływania
Wynik – elektrony swobodne (gaz elektronowy) poruszające
się w krysztale pod wpływem pola elektrycznego
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Przewodnictwo elektryczne materiału:
- zależy od liczby elektronów swobodnych
- zależy od temperatury:
Przewodniki – wzrost temp. zmniejsza przewodnictwo –
większa energia drgań jonów (wzrost rezystancji)
Półprzewodniki – wzrost temp. zwiększa przewodnictwo –
więcej elektronów walencyjnych się uwalnia (wzrost
koduktywności)
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Model pasmowy ciała stałego:
- atomy (elektrony) znajdują się w określonych stanach
energetycznych
- dozwolone stany (poziomy) energetyczne oddzielone są
strefami zabronionymi (przerwami energetycznymi)
- atom (elektron) może zmienić swoją energię tylko
skokowo
- wiąże się to z pobraniem/oddaniem przez atom energii
określonej przerwą energetyczną
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
Model energetyczny:
a) atomu: EP – energia w
stanie podstawowym,
EW – energia w stanie
wzbudzonym, E –
pamo zabronione
(przerwa energetyczna)
b) ciała stałego
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - wprowadzenie
- Oba pasma: podstawowe i przewodnictwa obsadzone są
przez elektrony walencyjne.
- Pozostałe elektrony są silnie związane z atomem i
całkowicie wypełniają powłoki (orbity) w liczbie 2n2.
- Odłączenie ich od atomu powoduje jego zniszczenie!!!!!
- Wzajemne położenie pasm:podstawowego i
przewodnictwa oraz liczba elektronów walencyjnych
decydują o właściwościach elektrycznych ciała stałego.
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - dielektryki
Układ pasm energetycznych dielektryka
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - dielektryki
Podstawowe właściwości dielektryków:
- mała konduktywność 10-15 ... 10-12 S/m (1012...1015 Wm)
- pasmo podstawowe całkowicie obsadzone przez elektrony
- brak elektronów swobodnych (walencyjnych)
- elektrony nie wystepują w pasmie przewodnictwa
- duża szerokość pasma zabronionego 10eV
- niemożność przejścia elektronu do pasma przewodnictwa
- pod wpływem wysokiego napięcia dielektryk ulega przebiciu i
zniszczeniu
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - przewodniki
Układ pasm energetycznych przewodnika
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - przewodniki
Podstawowe właściwości przewodników:
- duża koduktywność 106...109 S/m (mała rezystywność 10-9...10-6 Wm)
- brak pasma zabronionego – pasma podstawowe i przewodnictwa
zachodzą na siebie
- w pasmie przewodnictwa znajduje się bardzo dużo elektronów
swobodnych
- przyłożenie niewielkiego napięcia powoduje przepływ prądu
- wzrost temperatury powoduje wzrost rezystancji
Najlepszymi przewodnikami są metale – ciała stałe o
budowie krystalicznej zawierające elektrony swobodne.
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - półprzewodniki
Układ pasm energetycznych półprzewodnika
Budowa i właściwości elektryczne ciał
stałych - półprzewodniki
Podstawowe właściwości półprzewodników:
- koduktywność 10-8...10-4 S/m (rezystywność 104...108 Wm)
- przerwa energetyczna 0.1 – 2 eV
- w temperaturze pokojowej występują elektrony w paśmie
przewodnictwa
- wraz ze wzrostem temperatury rezystancja półprzewodnika maleje
- działając na półprzewodnik: ciepłem, promieniowaniem, polami
elektrycznym lub magnetycznym łatwo jest przenieść elektron z pasma
podstawowego do pasma przewodnictwa
Półprzewodniki - dziury i elektrony
Przejście pomiędzy
poziomami - generacja i
rekombinacja; pary dziura
elektron (garaż piętrowy).
Prąd w
półprzewodniku:
- elektronowy w paśmie
przewodnictwa w kierunku
elektrody dodatniej
- dziurowy w paśmie
podstawowym w kierunku
elektrody ujemnej
Półprzewodniki - dziury i elektrony
Ruchliwość dziur jest znacznie mniejsza od ruchliwości
elektronów.
O przewodności półprzewodnika decyduje liczba elektronów
i dziur.
Nośniki większościowe – decydujące o prądzie w
półprzewodniku (większy wkład w przepływ prądu).
Nośniki mniejszościowe – mające mniejszy wpływ na
przepływ prądu przez półprzewodnik.
W zależności od technologii wykonania nośnikami
większościowymi mogą być dziury lub elektrony.
Półprzewodniki samoistne
Samoistne – niedomieszkowane (koncentracja elektronów
= koncentracji dziur).
IV grupa układu okresowego:
- węgiel
- krzem
- german
- antymonek galu (GaSb)
- arsenek galu (GaAs)
- itd.
Półprzewodniki samoistne
Półprzewodniki domieszkowane
Wprowadzenie domieszki – zakłócenie atomowe sieci
krystalicznej – zwiększenie konduktywności.
Podstawowe pierwiastki gr. IV: german i krzem domieszkuje
się pierwiastkami z
- gr. III: B – borem, Al – glinem, Ga – galem, In - indem
- gr. V: P – fosforem, As – arsenem, Sb – antymonem, Bi bizmutem
Półprzewodniki domieszkowane
Rodzaje domieszek:
- donorowa (pierwiastkiem pięciowartościowym) – typ n
półprzewodnika
Półprzewodniki domieszkowane
Rodzaje domieszek:
- akceptorowa (pierwiastkiem trójwartościowym) – typ p półprzewodnika
Półprzewodniki – koncentracja nośników
Model pasmowy półprzewodnika domieszkowanego
donorami i akceptorami
Półprzewodniki – koncentracja nośników
Poziom Fermiego (WF) – charakteryzuje koncentrację
swobodnych nośników ładunku w półprzewodniku dla danej
temperatury. Jest to poziom energetyczny, którego
prawdopodobieństwo obsadzenia przez elektron wynosi 0.5
Funkcja prawdopodobieństwa obsadzenia przez elektron
w ciele stałym poziomu o energii W:
1
f W  
W  WF
1  exp
kT
k = 1.3810-23 J/K – stała Bolzmana
Półprzewodniki – koncentracja nośników
Koncentracja stanów dla okolic dna stanu przewodnictwa:
3
1
4
N C W   3 2mn 2 W  WC 2
h
Koncentracja stanów dla okolic wierzchołka stanu
podstawowego:
3
1
4
NV W   3 2mP 2 WV  W 2
h
mn – efektywna masa elektronu w paśmie przewodnictwa
mp – efektywna masa dziury w paśmie podstawowym
Półprzewodniki – koncentracja nośników w
półprzewodniku samoistnym
Półprzewodnik samoistny: a) rozkład koncentracji stanów, b)
prawdopodobieństwo obsadzenia stanów, c) koncentracja elektronów i dziur
Półprzewodniki – koncentracja nośników w
półprzewodniku samoistnym
Elektrony:
 WC  WFi 
ni  N C exp  

kT 

Dziury:
 WFi  WV 
pi  NV exp  

kT 

Musi występować równowaga:
ni  pi
Dlatego dla półprzewodnika samoistnego jest mowa o
koncentracji par: dziura – elektron.
Materiał
Si
Ge
GaAS
Koncentracja nośników
samoistnych ni [m-3]
1.451016
2.4·1019
1013
Półprzewodniki – koncentracja nośników w
półprzewodniku domieszkowanym
Dla silnie domieszkowanego półprzewodnika typu n:
- koncentracja elektronów:
nn  N d  N a
- koncentracja dziur:
ni2
pn 
nn
gdzie: Nd – koncentracja domieszek donorowych, Na – koncentracja
domieszek akceptorowych, ni – koncentracja elektronów w
półprzewodniku samoistnym
Półprzewodniki – koncentracja nośników w
półprzewodniku domieszkowanym
Dla silnie domieszkowanego półprzewodnika typu p:
- koncentracja elektronów:
p p  Na  Nd
- koncentracja dziur:
pi2
np 
pp
gdzie: Nd – koncentracja domieszek donorowych, Na – koncentracja
domieszek akceptorowych, pi – koncentracja dziur w półprzewodniku
samoistnym
Półprzewodniki – koncentracja nośników w
półprzewodniku domieszkowanym
Półprzewodnik domieszkowany n: a) rozkład koncentracji stanów, b)
prawdopodobieństwo obsadzenia stanów, c) koncentracja elektronów i dziur
Półprzewodniki – transport nośników
nadmiarowych
Prąd dyfuzji – prąd wywołany przez chaotyczny ruch
rozproszonych nośników nadmiarowych, z obszarów o
większej koncentracji do obszarów o mniejszej
koncentracji, w sieci krystalicznej półprzewodnika
(występuje oprócz rekombinacji)
Gęstość prądu dyf. elektronów:
J nD  qDn grad n
Gęstość prądu dyf. dziur:
J pD  qDp grad  p 
Dn, Dp – wspólczynniki dyfuzji
n,p – koncentracja elektronów/dziur w danym obszarze
półprzewodnika
Półprzewodniki – transport nośników
nadmiarowych
Prąd unoszenia (konwekcji) – prąd wywołany ruchem
ładunków elektrycznych, pod wpływem np. istniejącego pola
elektrycznego, nie związanych z cząstkami elementarnymi
ośrodka w którym się poruszają. Pole elektryczne wytwarza
przyłożone do ośrodka (półprzewodnika) napięcie.
Gęstość prądu unoszenia
elektronów:
J nu  qn nE
Gęstość prądu unoszenia dziur:
J pu  q p pE
gdzie ruchliwość ładunków dana jest równaniami (Einsteina):
q
q
n 
Dn
p 
Dp
kT
kT
kT
- potencjał termiczy złącza, w temp. pokojowej (300K) równy
T 
q około 26mV
Półprzewodniki – transport nośników
nadmiarowych
Całkowita gęstość prądu elektronów:
J n  qn nE  qDn grad n
Całkowita gęstość prądu dziur:
J p  q p pE  qDp grad  p 
Całkowity prąd w półprzewodniku:
J  Jn  J p
Złacze P-N - wprowadzenie
Złacze P-N niespolaryzowane
Złacze P-N niespolaryzowane
Stan równowagi złącza (brak zewnętrznej polaryzacji):
J pd  J pu  0

J nd  J nu  0 
Prąd wypadkowy jest równy zeru, brak napięcia na
zaciskach złącza.
Złącze wykonuje się z jednorodnego półprzewodnika o
jednakowej koncenracji domieszek jednego typu, do którego
części wprowadzono domieszki typu drugiego.
Złacze P-N niespolaryzowane
Charakter zmian właściwości półprzewodnika (z n na p
lub z p na n) może występować skokowo lub w sposób
ciągły (aproksymacja liniowa)
Złacze P-N spolaryzowane
Uproszczony model elektryczny złącza PN
Złacze P-N spolaryzowane zaporowo
Przepływ
niewielkiego
prądu
nasycenia
Złacze P-N spolaryzowane w kierunku
przewodzenia
Przepływ
dużego prądu
dyfuzjii
Złacze P-N spolaryzowane w kierunku
przewodzenia
Prawdopodobieństwo przejścia cząstki przez barierę
energetyczną (warstwę zaporową) wynosi:
 W 
P  exp  

 kT 
Bariera energetyczna jest równa energii pola elektrycznego
w warstwie zaporowej:
W  qU D  U 
Prąd dyfuzjii wynosi:
 qU D  U  
I d  a exp  

kT


Złacze P-N spolaryzowane w kierunku
przewodzenia
W stanie równowagi (bez polaryzacjii):
 qU D 
I d  I u  a exp  

 kT 
Stąd można zapisać:
qU
I d  I u exp
kT
Prąd całkowity (równanie Shockleya dla złącza idealnego):


U

I  I d  I u  I R  exp
 1
T 

kT
T 
- potencjał termiczny złącza, IR – efektywny prąd nasycenia
q
Złacze P-N spolaryzowane w kierunku
przewodzenia
Efektywny prąd nasycenia złącza (bez uwzględniania
generacji nośników w warstwie zaporowej):
 D p pn Dn n p 

I R  I S  q

 L

L
p
n


gdzie:
Dp,n – współczynniki dyfuzji dziur i elektronów
Lp,n – drogi dyfuzji dziur i elektronów
pn,np – koncentracje nośników mniejszościowych
Złącze P-N – model pasmowy
Złącze P-N – model pasmowy
Złącze P-N – napięcie dyfuzyjne
Wyznacza się z zależności:
 N AND 

U D  T ln 
2
 ni 
Przykładowo, w temperaturze pokojowej, przy umiarkowanej
koncentracji domieszek NA=ND=1022 m-3:
- dla krzemu:


1044

  699mV
U D  26mV ln 
32 
 2.1025 10 
- dla germanu:
 1044 
  313mV
U D  26mV ln 
38 
 5.76 10 
Złącze P-N – charakterystyka prądowo –
napięciowa w kierunku przewodzenia
Wpływ rezystancji szeregowej – zastępczej liniowej
rezystancji bedącej sumą rezystancji pasożytniczych:
U CC  IRS  U D
Złącze P-N – charakterystyka prądowo –
napięciowa w kierunku przewodzenia
Charakterystyka rzeczywista złącza PN:

 UD

I  I G  exp 
 2T


 
U
  1  I S  exp  D


 
 mT

 
  1

 
gdzie:
IG – prąd generacji – rekombinacji nośników w warstwie zaporowej dla małych
wartości napięć polaryzujących
m – wspólczynnik niedoskonałości złącza równy 1...2:
- m = 2 – zakres małych prądów (generacji – rekombinacji) oraz dużych
prądów
- m = 1 – zakres średnich prądów (dyfuzji)
Złącze P-N – charakterystyka prądowo –
napięciowa w kierunku zaporowym
Polaryzacja dużym napięciem wstecznym – wzrost pola
elektrycznego w półprzewodniku – nachylenie pasm w
modelu pasmowym:
Zrównanie poziomów
energetycznych znajdujących
się na brzegach pasm:
podstawowego i przewodzenia
Przebicie Zenera (jonizacja
elektrostatyczna) – tunelowe
przejście elektronów do pasma
przewodnictwa (półprz. silnie
domieszkowany) powodujące
wzrost koncentracji
swobodnych nośników ładunku
i przepływ prądu.
Złącze P-N – charakterystyka prądowo –
napięciowa w kierunku zaporowym
Dla silnych natężeń pola elektrycznego możliwa jest także jonizacja
atomów sieci półprzewodnika (półprzewodnik słabo
domieszkowany). Uderzenia elektronów, gdy są one w stanie
osiagnąć w ruchu energię o wartości większej niż szerokośc pasma
zabronionego, wytrącają z atomów elektrony (tworzą się elektrony
swobodne) co powoduje powstawanie dziur. Zjawisko może nabrać
charakteru lawinowego (przebicie lawinowe) gdy odcinek
półprzewodnika z dużym natężeniem pola jest wystarczająco długi
(ma wiele dróg swobodnych dla nośników ładunku).
Złącze P-N – charakterystyka prądowo –
napięciowa w kierunku zaporowym
Złącza o napięciu przebicia poniżej 6V – przebicie Zenera
Złącza o napięciu przebicia powyżej 7V – przebicie lawinowe
Może także nastąpić
przebicie złącza które
bezpowrotnie niszczy
jego strukturę!!!!!!
Złącze P-N – pojemności złącza
Pojemność złączowa – występuje przy polaryzacji
wstecznej złącza PN
C j0
Cj 
m

U 
1 

 UD 
Dielektryk
UD + U
P
-
-
-
-
-
-
+
+
+
+
+
+
+
+
N
+
+
+
+
+
+
+
+
Warstwa
zaporowa
U
-
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
Dla krzemu:
m = 1/2 - złacze skokowe
Ju
m = 1/3 – złącze liniowe
Złącze P-N – pojemności złącza
Pojemność:
S
C   0 r
d
 0  8.854 10
12
F
m
Złącze P-N – pojemności złącza
Pojemność dyfuzyjna – powstaje przy polaryzacji złącza PN w
kierunku przewodzenia. Związana jest z występowaniem w bazie
złącza (obszarach P i N) nadmiarowych nośników mniejszościowych
związanych ze zmianami (szybkimi) napięcia polaryzującego oraz
skończonym czasem życia nośników. Zmiana napięcia powoduje
zmagazynowanie na czas związany z czasem życia nośników, pewnej
liczby nośników mniejszościowych, które po wspomnianym czasie
rekombinują.
I
Cd 
2U D
 – czas życia (przejścia) nośników
mniejszościowych w obszarze bazy złącza
Złącze P-N – wpływ temperatury złącza
spolaryzowanego w kierunku przewodzenia
Przy polaryzacji w kierunku przewodzenia:
  U
  q U 
I  I R exp 
  1  I R exp 
  kT m  
  mT
 
  1
 
Temperaturowe współczynniki prądu przewodzenia:
dla krzemu (U>0.4V, IR=IG, m=2):
dI WG  qU

I
2
dT
2kT
dI Wg  qU

I
dla germanu i krzemu (IR=IS, m=1):
2
dT
kT
Wartość współczynników zależy od prądu!!!!!!!!!
Złącze P-N – wpływ temperatury złącza
spolaryzowanego w kierunku przewodzenia
Złącze P-N – wpływ temperatury złącza
spolaryzowanego w kierunku przewodzenia
Np.: dla I = 2mA, ze
wzrostem temperatury
napięcie na złączu
spada o około 2mV/0C
Złącze P-N silnie domieszkowane
Wraz ze wzrostem domieszek poziom Fermiego:
- w półprzewodniku typu n zbliża się do dna pasma przewodnictwa
- w półprzewodniku typu p zbliża się do wierzchołka pasma walencyjnego
Dla dużej koncentracji przechodzi do tych poziomów
Złącze P-N silnie domieszkowane
Dla polaryzacji zaporowej istnieje możliwość przejścia
tunelowego elektronu z pasma podstawowego do pasma
przewodnictwa – prąd Zenera.
Dla polaryzacji w kierunku przewodzenia istnieje także
możliwość przejścia elektronu z pasma przewodzenia do
pasma podstawowego – prąd Esakiego (silnie
domieszkowane półprzewodniki i cienka warstwa
zaporowa)
W stanie równowagi:
IZ  IE  0
Złącze P-N silnie domieszkowane
Złącze P-N silnie domieszkowane
Pkt. 0 – stan równowagi
Pkt. 1 – (U1>0) IE>IŻ pasmo A naprzeciw pasma B
Pkt. 2 – (U2>U1) IZ = 0, pasmo A dokładnie naprzeciw B
Pkt. 3 – (U3>U2) IE jest mały, część pasma A naprzeciw B
Pkt. 4 – (U4>U3) IE nie płynie, charakterystyka opisana
równaniem Shockley’a
Pkt. 5 – (U5<0) płynie tylko prąd Zenera
Złącze metal - półprzewodnik
Praca wyjścia – bariera energetyczna jaka musi pokonać
elektron żeby wyjść z ciała stałego i oddalić się na
nieskończenie dużą odległość (gdy już nie ma
oddziaływania elektron-ciało stałe). Czasami jest ona
definiowana jako różnicą energi poziomu Fermiego i
energii elektronu w próżni. Am, Ap – praca wyjścia
elektronu z metalu i półprzewodnika.
Właściwości styku metal - półprzewodnik zależą od
wartości Am, Ap tych materiałów.
Rozpatrujemy dwa przypadki: Am>Ap i Am<Ap
Złącze metal - półprzewodnik
Dla Am>Ap, półprzewodnik typu ‘n’:
- po zetknięciu metalu i półprzewodnika elektrony przechodzą do metalu
ponieważ mają mniejszą pracę wyjścia,
- ruch w drugą stronę jest niemożliwy
- opuszczając półprzewodnik zostawiają w nim nieskompensowane jony
donorów (ładunek dodatni)
- na powierzchni metalu wytwarzają warstwę ładunku ujemnego
- czyli na powierzchni styku wytwarza się warstwa ładunku
przestrzennego i powstaje pole elektryczne
- cofa ono część elektronów do półprzewodnika
- proces odbywa się do momentu równowagi prądów elektronów
płynących do metalu i elektronów cofanych
Złącze metal - półprzewodnik
- większość obszaru warstwy ładunku przestrzennego znajduje się po
stronie półprzewodnika
- obszar ten ma zmniejszoną koncentrację elektronów więc ma
zwiększoną rezystancję – tworzy się warstwa zaporowa
- przykładając zewnętrzne napięcie do złącza można regulować
szerokość warstwy zaporowej jak w złączu PN
Polaryzacja:
- zaporowa: ‘+’ do półprzewodnika, ‘-’ do metalu
- przewodzenia: ‘-’ do półprzewodnika ‘+’ do metalu
Złącze metal - półprzewodnik
Równanie złącza:
 2
 U B    U
 exp 
I   AT exp  
 T    T

 
  1
 
gdzie: UB – wysokość powierzchniowej bariety potencjału na styku
A – stała Richardsona, współczynnik zależny od rodzaju
półprzewodnika; dla Si A=250 Acm-2K-2
Złącze metal - półprzewodnik
Właściwości złącza:
- mniejsze napięcie dyfuzyjne od złacza PN (około 0.3V)
- szybkie działanie ze względu na brak efektów bezwładnościowych
obserwowanych w złaczu PN (szybkie oddawanie energii przez tzw.
elektrony gorące wpływające do metalu z półprzewodnika)
- duża stromość charakterystyki w zakresie przewodzenia
W przypadku półprzewodnika typu ‘p’ podobne właściwości
uzyskujemy dla warunku Am<Ap.
Złącze omowe. Złacze l-h
Złącze omowe musi spełniać dwa warunki:
- liniową zależność pomiedzy napięciem i prądem czyli nieskończona
szybkość rekombinacji nośników mniejszościowych (  0)
- małą rezystancję styku – brak bariery dla nośników większościowych
czyli metal musi być niewyczerpalnym źródłem i jednocześnie
nieskończonym odbiornikiem nośników większościowych
Spełniają te założenia złącza metali z pórzewodnikami:
typu ‘n’ dla Am<Ap oraz typu ‘p’ dla Am>Ap z pewnymi
modyfikacjami.
Złącze omowe. Złacze l-h
Złacze l-h (lighty doped region – heavily doped region):
Podstawowa właściwość – zmieniając domieszkowanie,
niezależnie od typu półprzewodnika, możemy wytwarzać
złącze o szybkości rekombinacji nośników mniejszościowych
zawartej w zakresie:
0 s th  
Złącze omowe. Złacze l-h
Złącza omowe:
Złącze P-N – modelowanie złącza. Modele
nieliniowe

U
I  I G  exp  D
 2T


 
U
  1  I S  exp  D


 
 mT

 
  1

 
  U
I  I R exp 
  mT
 
  1
 
I  I R  I S  IG
Złącze P-N – modelowanie złącza. Modele
nieliniowe
Złącze P-N – modelowanie złącza. Modele
liniowe
rd 
IQ
mT
rd   
rd m.cz 

2
Cd    Cd m.cz .
2

Download